氣氛爐系統硬件采用中綴形式編程，主要是時鐘中綴順序，主要由輸出分辨率序列，控制算法序列，可視化分辨率，輸入分辨率和自診斷序列組成。 儀表上電后，將給出初始化順序，并且每500ms后綴一次時間。 輸入后綴后，解決時鐘中綴問題。 對于純滯后和大彈性連桿控制，采用PID控制算法的常規積分。

　　在正常的PID控制中，當系統有較大的擾動且設定值很寬且寬度在上升或下降時，由于較大的偏差以及系統的彈性和滯后性，在積分項的作用下，較大的 和諧將會發生。 這在溫度快速變化的過程中尤其重要。 因此，采用積分措施的積分，即當偏差較大時，禁止積分作用，僅當偏差較大時才輸入積分作用。

　　氣氛爐適用于電子陶瓷和高溫結構陶瓷的燒結，玻璃的退火和微晶化，晶體的退火，陶瓷釉的制備，粉末冶金，納米材料的燒結，金屬零件的淬火和熱處理的所有熱處理應用。 快速加熱過程為了對電子元器件，新材料和粉末材料進行真空氣氛處理，需要在惰性氣氛中燒結材料。

　　氣氛爐采用LED數字顯示儀，可選配豪華智能觸摸屏儀，實時曲線顯示，數據也可通過U盤導出，計算機上裝有查看軟件，可選配485轉換接口，實現與爐膛的互聯。 電腦。 專用的計算機控制系統可用于使用一個或多達200個電爐執行遠程控制，實時跟蹤，歷史記錄和輸出報告。 氣氛爐使用一段時間后，爐子中會出現細小裂紋。 這是正?，F象，不會影響使用。 它廣泛用于實驗室，工礦企業和科研單位的初步實驗中。

　　氣氛爐采用的設計技術，操作方便，真空度好，密封性好，真空度長。 氣氛爐可以充滿高壓氣體，并且大氣壓力的限值為0.1MPa。 的密封技術可以長時間保持壓力，平穩性能好，操作簡便。

　　氣氛爐采用硅鉬棒為發熱元件，雙層殼體結構，40級程控溫度控制系統，相移觸發和晶閘管控制。 爐體由氧化鋁多晶纖維材料制成，雙層爐殼采用空氣冷卻系統，可快速冷卻溫度控制系統。 氣氛爐由外殼密封，蓋子由硅樹脂密封，爐門由硅樹脂制成。 有一個水冷卻系統，氣體通過流量計，然后通過后部進入和離開。

　　出氣口有多個洗滌爐，進氣口和燃燒器，可以通過氫氣，氬氣，氮氣，氧氣，一氧化碳，氨氣和其他氣體。 該爐具有平衡溫度場和低表面的優勢。 溫度低，快速加熱和冷卻，節省能源。 它是大學，研究所，工礦企業進行大氣保護，燒結和減少大氣污染的理想產品。